淺析紫外線(xiàn)光刻機的產(chǎn)品應用
更新時(shí)間：2023-05-10 點(diǎn)擊次數：795
紫外線(xiàn)光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產(chǎn)過(guò)程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經(jīng)常更換。由于冷卻系統過(guò)于臃腫,使得其生產(chǎn)成本高、效率低,已不能滿(mǎn)足PC B 生產(chǎn)的需要。在實(shí)驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機，改進(jìn)了其主要組成部分,包括曬架系統、光路系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體設計。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過(guò)**設計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的***族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過(guò)選配升級套件，實(shí)現紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn)：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SU**的單視場(chǎng)顯微鏡或分視場(chǎng)顯微鏡，實(shí)現快速準確對準、針對厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長(cháng)間進(jìn)行快速切換等。
采用三柔性支點(diǎn)實(shí)現高精度自動(dòng)調平；真空接觸自動(dòng)曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實(shí)現自動(dòng)化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實(shí)現高均勻照明；可連續設定分離間隙；采用雙目雙視場(chǎng)顯微鏡實(shí)現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動(dòng)化程度高等特點(diǎn)。
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